洁净工程主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为洁净室。按照惯例，无尘净化主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生较大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是需要的要求。
             洁净工程的气流是左右洁净室性能的重要因素，一般洁净室的气流速度是选0.25~0.5m/s之间，此气流速度属微风区域，易受人、机器等的动作而干扰趋于混乱、虽增加风速可控制此一扰乱之影响而保持洁净度、但因风速的上升，将影响运转成本的增加，所以应在合乎要求的洁净度水准之时，能以适当的风速供应，以达适当的风速供应以达经济性效果。
             另一方面欲达洁净室洁净度之稳定效果，均一气流之保持亦为一重要因素，均一气流若无法保持，表示风速有异，主要是在壁面，气流会延着壁面发生涡流作用，此时要实现高洁净度事实上很困难。
             垂直层流式方向要保持均一气流要：（a）吹出面的风速不可有速度上的差异；（b）地板回风板吸入面之风速不可有速度上的差异。速度过低或过高（0.2m/s，0.7m/s）均有涡流之现象发生，而0.5m/s之速度，气流则较均一，一般洁净室，其风速均取在0.25~0.5m/s之间。